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À propos du saphir

Le saphir synthétique, oxyde d’aluminium monocristallin Al2O3, est un excellent matériau avec des applications dans différents domaines.

Étant le plus dur de tous les oxydes, ce cristal présente une combinaison unique de propriétés optiques, mécaniques, chimiques et physiques. Sa résistance et sa dureté ainsi que sa qualité de transmission optique, sa résistance à la chaleur, ses propriétés diélectriques, ses caractéristiques isolantes, son inertie chimique et son insolubilité font de ce cristal un matériau de choix pour les environnements agressifs et les nouvelles applications scientifiques et commerciales de haute technologie qui en découlent. De plus, du fait que le saphir ait une structure cristalline hexagonale, ses caractéristiques optiques changent avec l’axe optique C et sa biréfringence est une propriété attrayante supplémentaire.

Industrie horlogère :

Le saphir, fabriqué en grande quantité et à des niveaux de pureté commercialement acceptables, est un matériau de choix pour l’industrie des montres de luxe où il est utilisé pour produire des verres de montre de haute résistance. Il a également plusieurs autres utilisations industrielles sous la forme de tiges, cubes, cônes, buses à orifices, etc.

Éléments optiques

Le saphir de bonne qualité optique trouve de larges applications dans l’optique utilisant les longueurs d’onde de l’UV à IR moyen où il est un substrat de choix. Ses utilisations optiques ne sont limitées que par sa biréfringence et le coût élevé d’un bon polissage. Les éléments optiques produits à partir d’un saphir de qualité standard se trouvent dans des fenêtres soumises à de fortes températures, de fortes pressions, mais aussi celle exposées à des milieux corrosifs, abrasifs ou impliquant n’importe quelle autres utilisations exigeantes (entretoises, thermocoupleurs, etc.)

Substrats pour les  semi-conducteurs

Lorsque le saphir est fabriqué avec une excellente structure cristalline (aux orientations des plans c, a et r) et qu’il possède des cristallins garantissant l’absence de défauts (fractures, glissements, lignage, etc.), il peut être utilisé dans le domaine des substrats pour  les technologies suivantes:

  • pour la croissance des composés lll-V & ll-VI pour produire des diodes laser vertes LED et bleu GaN,
  • pour les applications microélectroniques hybrides,
  • pour le dépôt épitaxial microélectronique IC et en particulier pour les circuits intégrés micro-ondes,
  • pour les applications de transducteurs
  • pour la croissance de matériaux supraconducteurs.